英特格（Entegris）濾心系列主要針對半導體行業，提供高效過濾解決方案。其濾心產品涵蓋氣體、化學品、光阻劑等的過濾需求，具備高純度、高流速和耐化學腐蝕性，能有效去除微粒和污染物，確保製程穩定性及產品品質。系列產品包括不同孔徑和材質，以應對各種應用情境，如 CMP、光刻、清洗等半導體製程的需求

• FlowPlane™：業界最佳的線性過濾技術，用於精密製程中的液體過濾。
• Torrento® X：過濾水性、有脫氣、侵蝕性酸鹼化學品的最佳選擇。
• Torrento® S：針對溶劑及後段製程（BEOL）化學品的過濾技術。
• QuickChange® NX：水性、脫氣及侵蝕性酸鹼化學品的先進過濾技術。
• Fluorogard® NX：針對非脫氣水性及酸鹼化學品或先進溶劑的經濟高效過濾技術。
• Guardian™ ECD：超潔淨低溫稀酸、稀鹼過濾。
• Intercept® HP/HS：低溫稀酸的最佳過濾技術。
• Impact® 8G：針對光化學品的超潔淨即用過濾器，提供優秀的流量性能並減少微泡生成。
• Microgard™ UC：針對光化學品的大宗過濾，提供超潔淨性能。
• Eximor® SV5：專為 NTD 和 RRC 溶劑設計的即用型潔淨過濾器。
• Planargard®：化學機械研磨（CMP）製程中用於過濾研磨漿料和清洗液，延長設備壽命，防止顆粒污染。
• IntelliGen®：用於光刻製程中的光阻劑和其他液體化學品過濾，提供高純度控制。
• Impact®：針對超純化學品過濾，去除亞微米級顆粒，適合清洗和蝕刻製程。
• Mykrolis®：涵蓋液體和氣體的多應用過濾技術，適用於清洗、蝕刻和薄膜沉積等製程。
• Fluorogard®：專為腐蝕性化學品（如強酸、強鹼）設計，適用於蝕刻製程的過濾。
• Purasol™：專注於有機溶劑的過濾，如光刻製程中的顯影液，確保高純度。
• Vanguard™：適用於高溫製程，如高溫化學清洗液的過濾，具備極佳的熱穩定性和耐化學性。
• Savana®：高流量化學過濾，適合製程化學品的純化和高效去除微粒。
• Optimizer®：適用於大流量化學品的過濾，提供穩定的高效過濾效果。
• ProcessGard®：專為苛刻工藝條件設計，適合極端環境中的化學品過濾。

• 這些濾心系列涵蓋了半導體製程中的多個步驟，包括光刻、清洗、蝕刻、薄膜沉積等，針對不同的化學品類型提供精確和高效的過濾解決方案。